晶片製作的傳統方式都要加溫到攝氏900至1200度之間, 現在 University College London 的
研究人員發展出一種只要在室溫之下就能製作「氧化矽(silicon dioxide)」的技術, 它是利用
紫外線的燈光來達成.
http://news.bbc.co.uk/2/hi/technology/5128762.stm
紫外線燈發出 126 奈米波長的光, 它可以使氧分子裂解成原子, 它可以將 silicon 氧化而不需將
silicon 本身加熱.
理論上這樣的製程可以省下很多用來加熱的能源, 同時就可以節省成本.
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